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論文種別 原著 
記述言語 英文 
表題 Comparison of the acid resistance of root dentin after treatment with an Mid-Infrared Free Electron Laser at betweenλ=9.0μm and λ=9.7μm 
掲載誌名 Japanese Journal of Applied Physics  (ISSN:16057422)
巻(号):頁 47(11):8622-8630
著者・共著者名 Heya M, Yoshikawa K, Inoue M 
発行年月 2008/11 
概要  
DOI